膜厚的不均匀性:无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果此位置的膜厚不是均匀的，不锈钢真空电镀，那么远离中
心位置的基片就无法得到均
匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由燕发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和嘉发源的恰当选泽可以使这些影响化。
在过去几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供的小规格、简便型光学镀膜系统，同时，用户对性能的要求不仅没有降低，反而有所提高，特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化化等方面。现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此，塑胶真空电镀，选用现代化光学镀腹系统的关键取决于对以下因素的认真考虑:即，沥林真空电镀，对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度—致性工艺所必需的所有技术因素。
工艺条件的控制直接影响着电镀层的质量。只有掌握和控制好每个镀种的各工艺条件，才能获得镀层。温度、电流密度、pH值、电镀时间等工艺条件必须相匹配。如在镀硬铬时，温度和电流密度配合不当，对镀铬溶液的阴极电流效率、分散能力、镀层硬度和光亮度都有很大的影响。当温度较高时，LED灯罩真空电镀，需适当增加电流密度，才可以获得所需的镀层。二者互相制约，改变其一，另一因素必须跟着变化。因此对工艺条件控制不好，就会发生电镀质量事故。
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