真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，真空电镀厂家，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜是指在真空环境下，真空电镀加工，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面（通常是非金属材料），属于气相沉积工艺。因为镀层常为金属薄膜，故也称真空金属化。广义的真空镀膜还包括在金属或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜。在所有被镀材料中，塑胶真空电镀，以塑料为常见，其次，为纸张镀膜。相对于金属、陶瓷、木材等材料，新圩真空电镀，塑料具有来源充足、性能易于调控、加工方便等优势，因此种类繁多的塑料或其他高分子材料作为工程装饰性结构材料，大量应用于汽车、家电、日用包装、工艺装饰等工业领域。但塑料材料大多存在表面硬度不高、外观不够华丽、耐磨性低等缺陷，如在塑料表面蒸镀一层极薄的金属薄膜，即可赋予塑料程亮的金属外观，合适的金属源还可大大增加材料表面耐磨性能，大大拓宽了塑料的装饰性和应用范围。
为了满足更安全、更节能、降低噪声、减少污染物排放的要求，在表面处理工艺上，真空电镀已经成为环保新趋势。与一般的电镀不同，真空电镀更加环保，同时，真空电镀可以生产出普通电镀无法达到的光泽度很好的黑色效果。
在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低（ 10-5Pa ）。镀层厚度0.04-0.1um太薄，反射率低；太厚，附着力差，易脱落。厚度0.04时反射率为90%。
PC料耐温130℃，只有“真空电镀 UV油光固”才可达到耐130℃高温要求。而一般的水电镀是无法对PC料进行电镀的。
一般真空电镀、UV真空电镀、真空电镀特殊.工艺有蒸镀、溅镀等
污泥铁氧体化处理由于电镀污泥是电镀废水投加铁盐后调pH及投加絮凝剂后发生沉淀的产物，故电镀污泥中一般含有大量的铁离子，尤其在含Cr废水污泥中，采用适当的技术可使其变成复合铁氧体，电镀污泥中的铁离子以及其它多种金属离子被束缚在反尖晶石面型立方结构的四氧化三铁晶格格点上，其晶体结构稳定，达到了消除二次污染的目的。
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